摘要本文试着阐述了新型知识产权—集成电路及其布图设计权的相关概念,在集成电路的开发中,布图设计和反向工程起着至关重要的作用,从而也易被复制,侵犯权利人的布图设计权的现象屡禁不止,本文着重讨论了侵权行为和反向工程的区别。借鉴一些国家已有的立法和司法经验,鼓励国家大力发展集成电路产业,促进我国经济的增长。
关键词集成电路 布图设计 侵权 反向工程
中图分类号:D920.4文献标识码:A
1 引言
在日新月异的高科技时代,信息工业已成为现代信息社会的基础,而集成电路又素有信息工业的“粮食”之称。伴随着超大规模集成电路技术的发展,集成电路已不仅仅适用于电脑,还广泛应用于各类商业产品,例如飞机、手机和手表。确切地说,集成电路已经涉及到了电子产品的各个领域。因此,集成电路事关国民经济、国防建设、人民生活和信息安全的大局,它已被认为是左右一个国家工业发展和经济成长的重要因素。
2 集成电路的发展及其基本概念
1947年2月23日,美国的贝尔实验室,肖克莱(Shockley)、巴丁(Bardeen)和布拉顿(Brattain)发明了世界上第一只晶体管,拉开了二十世纪后半叶新技术革命的序幕。1958年,美国德州仪器公司(Texas Instrument,TI)的基尔比(Jack S.Killy)在研究微型组件时,用六个元器件组成移相振荡器,当输入10V电压时,该电路输出了一条正弦波曲线,宣告了在TI公司实验室里诞生了世界上第一块集成电路,开创了半导体时代,奠定了今天IC产业发展的基础,具有划时代的意义,1965年,摩尔博士天才地预言,“集成电路上能被集成的晶体管数目,将会以每18个月翻一番的速度稳定增长,并在今后数十年内保持着这种势头”,此后,随着人们发明了平面工艺,集成电路按此著名的“摩尔定律”以令人瞠目结舌的速度迅猛发展,集成规模由小规模发展到中规模,现在已经发展到超大规模。
早在20世纪70年代末,美国就曾有人断言:“像现在OPEC(石油输出国组织)左右世界一样,将来掌握了半导体技术的国家将左右整个世界”,①我国当前也十分重视集成电路产业的发展,根据我国2001年10月1日实行的《集成电路布图设计保护条例》,集成电路(Integrated circuit,又称IC),是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互联线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。研制开发一种集成电路要经过设计、制作、封装三个阶段,包括以下几个阶段:(1)根据集成电路的功能来选择工艺库;(2)进行系统设计;(3)进行电路级设计;(4)版图设计;(5)流片,成为芯片;(6)芯片测试;(7)封装芯片,成为集成电路。其中最重要的就是第(4)步,版图设计,又叫集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
一般而言,独立开发一种普通的超大规模集成电路至少需要投入数百万美元,花费两三年的时间,②而非法复制只需要花三至五个月,投入两三万美元,所以一些不法商就通过复制集成电路布图设计的方法牟利,这种行为严重侵犯了权利人的集成电路布图设计权。在有关集成电路芯片法中,所谓侵权主要是指芯片布图所有权人以外的法人或个人未经许可非法利用该芯片布图设计。③然而各国的立法一般都反向工程给予保护,在合理限度内实施的反向工程不认为是侵权行为,所谓反向工程(Reverse engineering),又称还原工程,在集成电路产业中特指利用化学方法,在彻底剖析了解每一个电路功能的基础上,重新设计与原产品不同但功能相当的芯片。④
3 国际条约和各国法律对集成电路的反向工程制度的保护
目前各国法律都承认,在合理限度内实施的反向工程不构成侵权。这里的合理性,包含两个方面的要求:(1)仅仅为教学、评价、研究布图设计中的概念、技术或者布图设计中采用的电路、逻辑、组织结构而复制他人布图设计的行为不视为侵权,这种行为的目的是非商业性的。(2)将分析、评价结果应用于为销售而制作的具有独创性的布图设计之中的行为也不视为侵权。
《华盛顿条约》第6条第2款(a)项规定,第三人为了私人目的或者单纯为了评价、分析、研究或者教学目的,未经权利持有人许可而实施复制受保护的布图设计(拓扑图)的行为时合法行为。(b)款规定,(a)项所指的第三人在评价、分析受保护的布图设计(拓扑图)(“第一布图设计(拓扑图)”)基础上,创作出具有独创性的布图设计(拓扑图)(“第二布图设计(拓扑图)”),该第三人可以在集成电路中采用第二布图设计(拓扑图)或者对其实施复制、进口、销售或以其他方式发行的行为不构成对第一布图设计(拓扑图)的权利持有人权利的侵犯。
美国《半导体芯片保护法》第906条规定,(a)尽管有第905条的规定,下列行为不视为侵害掩膜作品权利人专有权:(1)仅为教学、分析或评价包含在掩膜作品中的概念或技术、该掩膜作品使用的电路、逻辑图或元件布局而复制掩膜作品;或(2)将上述分析、评价的结果运用到具有独创性的、用于商业销售的掩膜作品。然而,仍不清楚的地方是:是否这一条允许通过反向工程得到的第二个芯片与第一个芯片充分地相同。
欧共体《关于半导体集成电路电路布局法》中,反向工程是在5(3)章节提到的,其清楚地表述为:布图设计里的特权将不适用于‘以分析,评价,或者教授该布图设计中的概念,过程,系统或技术,或布图设计自身为目的的复制行为’,章节5(4),其分析得到的结果可以被用来制作另一个原创的布图设计。不过,该条约的表述对反向工程得到的布图设计可以在多大程度上与原布图设计相似的表述不太清楚。
我国《集成电路布图设计保护条例》第23条规定,下列行为可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬:(1)为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的;(2)在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上,创作出具有独创性的布图设计的;(3)对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。
各国之所以做出这样的规定,有其法理上的合法性依据,集成电路反向工程制度是公平正义的价值要求,也是利益平衡的调节器。技术创新的主体在实现技术的创新和进步时,一般有两种方式可以选择,来对其创新进行保护。一是法律,二是商业秘密。如果通过法律进行保护,创新主体必须把其技术进行公开,以获得一定的时间的专有权,这个专有权是有时间限制的。如果创新主体通过商业秘密的方式对其技术进行保护,保护的好,可以无限期地、永久地占领市场,有利于创新主体获得更大的利润,但是这样必然会导致垄断和技术发展的缓慢。所以如果他人通过剖析权利人的产品而获得技术的话,即通过反向工程获得新的技术,则应受到法律的保护,这样的保护体现了公平正义,也有利于创新主体和社会大众之间的利益平衡。
各国之所以这样规定,有其技术上的合法性依据,主要是因为反向工程在集成电路技术发展中起着极其重要的作用,而且独立开发一种新的芯片要花三至三年半时间,而实施还原工程只要一年到一年半,因而还原工程并不过分背离公开竞争原则,是集成电路产业中一项可以接受的行为。可以毫不夸张地说,全世界每一个集成电路的厂商都在做反向工程,以便了解其他厂商的产品发展状况,提高自己产品的技术水平。如果限制反向工程制度,势必遏制集成电路技术的进步。
在我国,反向工程有现实的积极意义,我国集成电路产业仍处于初级发展水平,表现在:一是产业规模小,2000年全国半导体销售额仅占全球半导体销售总额的1.5%,占国内市场需求份额不到25%,大量产品还要靠进口;二是创新能力弱,表现在生产技术开发能力和产品设计开发能力弱,生产技术和高档产品主要靠引进,高级设计人才和工艺开发人才缺乏;三是支撑业发展滞后,集成电路生产线设备、仪器和材料主要依靠进口。⑤吴邦国副总理也曾说过,集成电路目前仍是制约我国信息产业发展的瓶颈。通过反向工程解剖市场上的芯片,绘出布图设计,进而开发出兼容或者更先进的产品。反向工程对于落后国家发展集成电路产业和推动集成电路布图设计技术进步十分重要,作为集成电路工业最发达的国家,美国同样希望,能够借助对集成电路布图设计进行反向设计,设计出功能相同而性能更优的半导体芯片。
4 集成电路反向工程和侵权的区分
根据我国《集成电路布图设计保护条例》第7条的规定,布图设计权利人享有下列专有权:(1)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;(2)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。这里的商业利用包括进口权、销售权或者以其他方式发行权。而侵权主要指芯片布图设计所有人以外的法人或个人未经许可非法利用该芯片的布图设计。⑥基于反向工程制度,是允许第三人复制芯片的布图设计;基于反向工程创造的第二布图设计,第三人可以在集成电路中采用第二布图设计或者对其实施复制、进口、销售或从其他方式发行的行为不构成对第一布图设计的权利持有人的侵犯。
如此判断,反向工程和侵权的界限很不好区分,反向工程是否合法的关键还在于反向工程所制作的集成电路芯片是否具有独创性。判断独创性的标准通常有两个,它们是实质性的相似(substantial similarity)与辛苦和投资(toil and investment)。前者是指在判断是否具有独创性过程中,不是将新、旧两个布图设计作百分比的检查,而是由专家证明两者的关键性部分是否相似。如果相似,则不具有独创性。后者是指从反向工程者提供的时间性“书面痕迹”(paper trail)中评判其是否投入了足够多的时间、精力和经费,以判断是否有非法复制行为。⑦此外,必须指出的是,在技术层面上,直接复制和反向工程技术效果是完全不一样的即从工艺层面上,可以判断出两者的一般区别。
反向工程制度的使用在制造集成电路时,会使技术上会有所创新,所以应当在一定条件下给予反向工程特许,虽然现在中国还没有一例集成电路布图设计侵权方面的判决,但是随着我国集成电路产业的发展,在司法实践中,肯定会遇到这方面的案例,所以明确区分反向工程和侵权仍是十分重要的事情,这对于集成电路的保护也不无益处。
5 结语
我国的集成电路产业的发展还处于初级阶段,中国的集成电路产业应立足自身的实际情况,借鉴其他国家的立法状况,正确地运用我国的法律,保护集成电路的发展,界定反向工程的合法地位,创造集成电路发展的良好环境,大力发展我国的集成电路产业,推动我国经济的发展,努力立足于世界之林!
注释
①志村幸雄.集成电路工业的秘密—看不见得经济战争实况[M].北京:电子工业出版社,1985: 15.
②萧雄淋.著作权法研究(一)[M].台北:三民书局股份有限公司,1989:399.
③陈昌柏.知识产权战略[M].科学出版社,1999:180.
④张玉敏.私法的理论反思与制度重构[M].中国检察出版社,2006:358.
⑤
⑥⑦陈昌柏.知识产权战略[M].科学出版社,1999:180,184.
相关热词搜索： 集成电路 法律问题 试论 工程
